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8486104000 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)
| 商品编码 | 8486104000 | ||||
| 商品名称 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | ||||
| 申报要素 | 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS; | ||||
| 法定第一单位 | 台 | 法定第二单位 | 无 | ||
| 最惠国进口税率 | 0% | 普通进口税率 | 30% | 暂定进口税率 | - |
| 消费税率 | - | 增值税率 | 16% | ||
| 出口关税率 | 0% | 出口退税率 | 16% | ||
| 海关监管条件 | 无 | 检验检疫类别 | 无 | ||
| 商品描述 | 1.抛光机SINGLESIDELAPPINGMACHINE；2.用于发光二极管芯片的抛光；3.发光二极管芯片的抛光；4.无品牌；5.无型号 | ||||
| 英文名称 | Chemical mechanical polishers(CMP) for the manufacture of boules or wafers | ||||
所属分类及章节
| 类目 | 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章） |
| 章节 | 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 |
申报实例汇总
| 商品编码 | 商品名称 |
| 8486104000 | 铜盘抛光机 |
| 8486104000 | 表面抛光机 |
| 8486104000 | 表面抛光处理设备(旧) |
| 8486104000 | 精密磨抛系统 |
| 8486104000 | 硅片边缘抛光机 |
| 8486104000 | 硅片边抛机(旧) |
| 8486104000 | 硅片单面抛光机 |
| 8486104000 | 硅片制样系统 |
| 8486104000 | 滚磨机 WX-7321 |
| 8486104000 | 晶片铜盘抛光机（旧） |
| 8486104000 | 晶片双面抛光机（旧） |
| 8486104000 | 晶片化学机械抛光机（旧） |
| 8486104000 | 晶圆抛光机 |
| 8486104000 | 晶圆化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | 抛光机（旧） |
| 8486104000 | 抛光机 |
| 8486104000 | 单面抛光机/SILTEK/CMP抛光 |
| 8486104000 | 单面抛光机 |
| 8486104000 | 单晶柱化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | 半导体抛光机 |
| 8486104000 | 化学机械研磨机（旧） |
| 8486104000 | 化学机械研磨机 |
| 8486104000 | 化学机械抛光设备/APPLIED/有效 |
| 8486104000 | 化学机械抛光设备(旧)97年产,已用21年,还可用7年 |
| 8486104000 | 化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | 化学机械抛光研磨机 |
| 8486104000 | 化学机械抛光机（旧） |
| 8486104000 | 化学机械抛光机 （旧） |
| 8486104000 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
| 8486104000 | Gnad61 化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | CMP |
