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8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))

商品编码 8486202100 
商品名称 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))
申报要素 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS;
法定第一单位 台 法定第二单位 无
最惠国进口税率 0% 普通进口税率 30% 暂定进口税率 -
消费税率 - 增值税率 16%
出口关税率 0% 出口退税率 16%
海关监管条件 无 检验检疫类别 无
商品描述 1.金属有机物化学气相淀积设备；2.用于制造外延片；3.由压力控制，温度控制，反应室等子系统通过计算机软件连接组成，可按照设计需求独立设定气流，压力，温度等工艺参数值，制备满足设计需求的外延片；4.无品牌；5.无型号
英文名称 Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
所属分类及章节
类目 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章）
章节 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
申报实例汇总
商品编码商品名称
8486202100预镀膜机(旧)
8486202100镀膜机
8486202100钨膜化学气相沉积设备
8486202100金属有机物化学气相淀积设备
8486202100金属有机物化学气相沉积设备
8486202100金属有机物化学气相沉积系统
8486202100金属有机物化学气相沉积台
8486202100金属有机物化学气相沉淀炉
8486202100金属有机源气相沉积设备
8486202100金属有机化合物气相淀积法设备/成套散件
8486202100金属有机化合物气相淀积法设备
8486202100酸化膜成长装置
8486202100连续式电子束蒸发系统
8486202100背封炉（旧）
8486202100等离子沉积设备(旧)
8486202100等离子增强型化学气相沉积台（旧）
8486202100等离子增强化学气象沉积系统（见清单）
8486202100等离子增强化学气相沉积装置
8486202100等离子增强化学气相沉积系统
8486202100等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机
8486202100等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统
8486202100等离子化学气相沉积装置
8486202100等离子加强型化学气体淀积装置
8486202100等离子体增强化学气相沉积装置
8486202100等离子体CVD纳米材料生长系统
8486202100立式扩散炉(旧)01年产,已用17年,还可用8年
8486202100磁性薄膜联合生长系统
8486202100电浆辅助化学气相沉积系统
8486202100电浆辅助化学气相沉积仪(旧)
8486202100电浆辅助化学气相沉积(旧)
8486202100水平化学气相沉积装置(旧）
8486202100气体混合柜成套散件/RESI
8486202100材料沉积系统(实验室用)
8486202100有机金属化学气相沉积炉
8486202100旧钨化学气相沉积装置
8486202100旧化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台
8486202100旧低压化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台
8486202100微波辅助化学气相沉积系统
8486202100射频等离子增强化学气相沉积系统
8486202100射频发生器(CVD装置用)97#
8486202100射频发生器(CVD装置用)94#
8486202100射频发生器(CVD装置用)92#
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8486202100射频发生器(CVD装置用)4018#
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8486202100射频发生器(CVD装置用)116#
8486202100射频发生器(CVD装置用)115#
8486202100射频发生器(CVD装置用)114#
8486202100射频发生器(CVD装置用)113#
8486202100射频发生器(CVD装置用)109#
8486202100射频发生器(CVD装置用)108#
8486202100射频发生器(CVD装置用)107#
8486202100射频发生器(CVD装置用)105#
8486202100射频发生器(CVD装置用)104#
8486202100太阳能电池镀膜装置(旧)
8486202100太阳能减反射膜制造设备
8486202100外延炉
8486202100垂直化学气相沉积装置(旧)
8486202100团簇式多腔体等离子增强化学气相沉积系统
8486202100原子层沉积系统
8486202100卷对卷化学气相沉积装置R2R CHEMICAL VAPOR
8486202100卧式低压化学气相沉积炉管系统;制造器件沉积薄膜;低压化学气相沉积;SVCS
8486202100化学气象沉积装置
8486202100化学气相淀积设备（旧）
8486202100化学气相淀积设备(旧)98年产,已用20年,还可用6年
8486202100化学气相淀积设备(旧)00年产，已使用18年，还可用7年
8486202100化学气相淀积设备(旧)00年产,已用18年,还可用7年
8486202100化学气相沉积设备（旧）
8486202100化学气相沉积设备/WJ牌
8486202100化学气相沉积设备/NOVELLUS/在
8486202100化学气相沉积设备(旧)
8486202100化学气相沉积设备
8486202100化学气相沉积装置（旧）
8486202100化学气相沉积装置
8486202100化学气相沉积系统(旧)
8486202100化学气相沉积炉(旧)
8486202100化学气相沉积炉
8486202100化学气相沉淀机（旧）
8486202100制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
8486202100减反射膜制造设备(新格拉斯牌)
8486202100减反射膜制造设备
8486202100低压化学气相沉积装置(旧)01年产,已用17年,还可用8年
8486202100低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统
8486202100TCO化学气相沉积系统
8486202100PECVD设备(旧)
8486202100PECVD硅片镀膜机(旧)
8486202100PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统)
8486202100PECVD化学气相沉积设备
8486202100PECVD减反射膜制造设备
8486202100PECVD 减反射膜制造设备
8486202100IC淀积炉
8486202100CVD
8486202100C-1淀积炉
8486202100(旧)常压化学气相沉积设备
上一条：制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) 下一条：出口的定制型软件（不包括与产品固化或集成为一体的软件）
HS编码查询小贴士
HSCode海关编码即HS编码，又称海关商品编码，由世界贸易各国共同编制，商品编码的前六位为国际通用，后面几位则根据各个地区的产品类目性质而定。我国进出口税则采用十位编码，前八位等效采用HS编码，后两位为我国子目。海关编码的主要作用是海关对进出口的商品实施监管和统计，根据不同HS编码的商品实施不同的监管、关税和增值税的征缴等。
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