这里是hs编码8486204100对应商品制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机的归属分类详细介绍页面，包括其申报要素、海关监管条件、出口退税率等信息，并提供申报实例参考。
8486204100 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
| 商品编码 | 8486204100 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 申报要素 | 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型号;6:GTIN;7:CAS; | ||||
| 法定第一单位 | 台 | 法定第二单位 | 无 | ||
| 最惠国进口税率 | 0% | 普通进口税率 | 30% | 暂定进口税率 | - |
| 消费税率 | - | 增值税率 | 16% | ||
| 出口关税率 | 0% | 出口退税率 | 16% | ||
| 海关监管条件 | 无 | 检验检疫类别 | 无 | ||
| 商品描述 | 1.深反刻蚀机；2.实验室用；3.MEMS器件制造；4.无品牌；5.无型号 | ||||
| 英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
所属分类及章节
| 类目 | 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章） |
| 章节 | 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 |
申报实例汇总
| 商品编码 | 商品名称 |
| 8486204100 | 金属蚀刻机/LAM牌 |
| 8486204100 | 金属蚀刻机 |
| 8486204100 | 金属层刻蚀机(旧) |
| 8486204100 | 金属刻蚀机（旧） |
| 8486204100 | 酸性蚀刻自动添加系统 |
| 8486204100 | 蚀刻设备(旧) |
| 8486204100 | 蚀刻设备 |
| 8486204100 | 蚀刻机 |
| 8486204100 | 线路板雕刻机 |
| 8486204100 | 线路板制作机 |
| 8486204100 | 等离子蚀刻机（旧） |
| 8486204100 | 等离子蚀刻机 |
| 8486204100 | 等离子清洗机(成套设备) |
| 8486204100 | 等离子清洗机 |
| 8486204100 | 等离子干法可刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子干法去胶机(旧) |
| 8486204100 | 等离子干法刻蚀设备 |
| 8486204100 | 等离子干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子去胶机(旧) |
| 8486204100 | 等离子刻蚀设备(旧) |
| 8486204100 | 等离子刻蚀机（干法刻蚀） |
| 8486204100 | 等离子刻蚀机(志圣牌) |
| 8486204100 | 等离子刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子体干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子体刻蚀系统 |
| 8486204100 | 等离子体刻蚀机 |
| 8486204100 | 离子刻蚀微调机 |
| 8486204100 | 碱性蚀刻生产线 |
| 8486204100 | 电浆清洗机 |
| 8486204100 | 电浆处理设备 |
| 8486204100 | 深槽刻蚀机/LAM |
| 8486204100 | 深干法硅微结构离子刻蚀机 |
| 8486204100 | 深反刻蚀机 |
| 8486204100 | 水平调整支撑 |
| 8486204100 | 水平调整器 |
| 8486204100 | 氧化物蚀刻机 |
| 8486204100 | 气浮导轨 |
| 8486204100 | 校直块 |
| 8486204100 | 旧干式蚀刻机 |
| 8486204100 | 感应耦合等离子刻蚀机(不含外 |
| 8486204100 | 感应耦合等离子体干法蚀刻机（旧，2010年制) |
| 8486204100 | 感应耦合等离子体刻蚀系统 |
| 8486204100 | 微调机 |
| 8486204100 | 干法蚀刻设备 |
| 8486204100 | 干法蚀刻装置 |
| 8486204100 | 干法蚀刻机 |
| 8486204100 | 干法去胶机（旧） |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)98年产,已使用20年,还可用8年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)05年产,已使用13年,还可用12年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)00年产,已使用18年,还可用7年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)00年产,已使用18年,还可用10年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)/使被刻蚀材料表面形成特定图案 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧) |
| 8486204100 | 干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 干式蚀刻机 |
| 8486204100 | 干式刻蚀机（旧） |
| 8486204100 | 干式刻蚀机 |
| 8486204100 | 干式光阻去除机/Mattson牌 |
| 8486204100 | 干式光阻去除机 |
| 8486204100 | 多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 |
| 8486204100 | 多晶硅蚀刻机 |
| 8486204100 | 反应离子刻蚀机 |
| 8486204100 | 反应离子刻蚀制绒机 |
| 8486204100 | 双面碱性生产线 |
| 8486204100 | 半导体端泵激光标记机 |
| 8486204100 | 刻蚀机（旧） |
| 8486204100 | 刻蚀机(成套散件) |
| 8486204100 | 刻蚀机 |
| 8486204100 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 二米蚀刻机 |
| 8486204100 | IC刻蚀机 |
| 8486204100 | (旧)等离子刻蚀机 |
